Improving CD uniformity using MB-MDP for 14nm node and beyond
Author:
Affiliation:
1. SAMSUNG Electronics Co., Ltd. (Korea, Republic of)
2. D2S, Inc. (United States)
Publisher
SPIE
Cited by 6 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献
1. Multibeam mask writer MBM-1000;Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS;2018-09-24
2. Multi-beam mask writer MBM-1000 and its application field;SPIE Proceedings;2016-05-10
3. Model-based virtual VSB mask writer verification for efficient mask error checking and optimization prior to MDP;SPIE Proceedings;2014-10-08
4. Computational technique to overcome the limit of a photomask writer;Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS;2014-04-25
5. Inverse e-beam lithography on photomask for computational lithography;Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS;2013-12-02
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