Multi-beam mask writer MBM-3000 for next generation EUV mask production
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SPIE
Reference12 articles.
1. High-NA EUV lithography: current status and outlook for the future;Levinson;Jpn. J. Appl. Phys,2022
2. Recent progress and future of electron multi-beam mask writer
3. Fast Electron Beam Lithography System with 1024 Beams Individually Controlled by Blanking Aperture Array
4. eMET: 50 keV electron multibeam Mask Eexposure Tool;Klein,2011
5. Global Critical Dimension Correction: I. Fogging Effect Correction
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