Robust complementary technique with multiple-patterning for sub-10 nm node device

Author:

Oyama Kenichi,Yamauchi Shohei,Natori Sakurako,Hara Arisa,Yamato Masatoshi,Yaegashi Hidetami

Publisher

SPIE

Cited by 9 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献,注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献,订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Advanced Lithography;Springer Handbook of Semiconductor Devices;2022-11-11

2. A self-aligned lithography method based on Fabry-Perot resonator effect;Optik;2022-07

3. Pushing the plasmonic imaging nanolithography to nano-manufacturing;Optics Communications;2017-12

4. Line end shortening and iso-dense etch bias improvement by ALD spacer shrink process;SPIE Proceedings;2017-03-27

5. How Lithography Enables Moore's Law;Future Trends in Microelectronics;2016-09-19

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