Integrated mask and optics simulations for mask corner rounding effect in OPC modeling
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SPIE
Cited by 6 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献
1. Mask Corner Rounding in OPC Modeling;2024 Conference of Science and Technology for Integrated Circuits (CSTIC);2024-03-17
2. Accurate mask model implementation in optical proximity correction model for 14-nm nodes and beyond;Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS;2016-04-27
3. A novel method to quantify the complex mask patterns;SPIE Proceedings;2016-03-08
4. Accurate mask model implementation in OPC model for 14nm nodes and beyond;SPIE Proceedings;2015-10-23
5. Effective corner rounding correction in the data preparation for electron beam lithography;SPIE Proceedings;2014-09-16
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