Extending a 193 nm mask inspector for 22 nm HP EUV mask inspection
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Publisher
SPIE
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1. Mask defect management in extreme-ultraviolet lithography;Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS;2014-06-16
2. EUV reticle inspection with a 193nm reticle inspector;SPIE Proceedings;2013-06-28
3. Performance of EBeyeM for EUV mask inspection;SPIE Proceedings;2011-10-06
4. EUVL mask inspection using 193nm wavelength for 30nm node and beyond;SPIE Proceedings;2011-10-06
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