High-power, narrow linewidth solid-state deep ultraviolet laser generation at 193 nm by frequency mixing in LBO crystals
Author:
Affiliation:
1. Chinese Academy of Sciences, GBA branch of Aerospace Information Research Institute, Guangzhou, China
Publisher
SPIE-Intl Soc Optical Eng
Reference33 articles.
1. Pushing deep ultraviolet lithography to its limits
2. Three-dimensional deep sub-wavelength defect detection using λ = 193 nm optical microscopy
3. Highly efficient tunable picosecond deep ultraviolet laser system for Raman spectroscopy
4. Development of high coherence high power 193nm laser
5. Sub-10 nm patterning using EUV interference lithography
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