EUV lithography: LER design, mask, and wafer impact
Author:
Publisher
SPIE
Reference7 articles.
1. System-level line-edge roughness limits in extreme ultraviolet lithography
2. Impact of EUV photomask line-edge roughness on wafer prints
3. Mask roughness impact on extreme UV and 193nm immersion lithography
4. Exploring the stochastics cliff: understanding the impact of LER/LWR to stochastic defectivity and yield
5. Does high-NA EUV require tighter mask roughness specifications: a simulation study
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