Highly conductive grain boundaries in copper oxide thin films

Author:

Deuermeier Jonas12ORCID,Wardenga Hans F.2,Morasch Jan2,Siol Sebastian2,Nandy Suman1,Calmeiro Tomás1,Martins Rodrigo1,Klein Andreas2ORCID,Fortunato Elvira1

Affiliation:

1. Department of Materials Science, Faculty of Science and Technology, i3N/CENIMAT, Universidade NOVA de Lisboa and CEMOP/UNINOVA, Campus de Caparica, 2829-516 Caparica, Portugal

2. Department of Materials and Earth Sciences, Technische Universität Darmstadt, Jovanka-Bontschits-Straße 2, D-64287 Darmstadt, Germany

Funder

Deutsche Forschungsgemeinschaft (DFG)

Fundação para a Ciência e a Tecnologia (FCT)

Publisher

AIP Publishing

Subject

General Physics and Astronomy

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