Remotely induced high-density hollow-anode plasma and its application to fast deposition of photosensitive microcrystalline silicon thin film with preferential <110> orientation

Author:

Tabuchi Toshihiro1,Toyoshima Yasumasa1,Fujimoto Shinichi2,Takashiri Masayuki3

Affiliation:

1. Development Division, Komatsu Ltd., 1200 Manda, Hiratsuka, Kanagawa 254-8567, Japan

2. KELK Ltd., 3-25-1 Shinomiya, Hiratsuka, Kanagawa 254-8543, Japan

3. Department of Materials Science, Tokai University, 4-1-1 Kitakaname, Hiratsuka, Kanagawa 259-1292, Japan

Publisher

AIP Publishing

Subject

General Physics and Astronomy

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