Influence of temperature gradients on partial pressures in a low‐pressure chemical‐vapor‐deposition reactor

Author:

Oosterlaken T. G. M.,Leusink G. J.,Janssen G. C. A. M.,Radelaar S.,Kuijlaars K. J.,Kleijn C. R.,van den Akker H. E. A.

Publisher

AIP Publishing

Subject

General Physics and Astronomy

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1. Multi-scale modeling of chemical vapor deposition processes for thin film technology;Journal of Crystal Growth;2007-05

2. Some recent developments in chemical vapor deposition process and equipment modeling;Le Journal de Physique IV;1999-09

3. Simulation of selective tungsten chemical vapour deposition;Materials Science in Semiconductor Processing;1998-04

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5. Raman Scattering;Optical Diagnostics for Thin Film Processing;1996

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