Effect of heat treatment on the nanoporosity of silica PECVD films elucidated by low-energy positron annihilation and ellipsometric porosimetry

Author:

Yoshimoto Shigeru123,Kumagai Kazuhiro1,Hosomi Hiroyuki3,Takeda Masaaki3,Tsuru Toshinori2,Ito Kenji1

Affiliation:

1. National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), 1–1–1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki 305–8565, Japan

2. Hiroshima University, 1–4–1 Kagamiyama, Higashi-Hiroshima, Hiroshima 739–8527, Japan

3. Toray Research Center, Inc., 3–3–7 Sonoyama, Otsu, Shiga 520–8567, Japan

Funder

MEXT | Japan Society for the Promotion of Science

Publisher

AIP Publishing

Subject

General Physics and Astronomy

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