1. [1] C. B. Eom, R. J. Cava, R. M. Fleming, J. M. Philips, R. B. Dover, J. H. Marshall, J.W. P. Hsu, J. J. Krajewski and W. F. Peck Jr., Science, 258, 1766-1769 (1992).
2. [2] K. Wasa, Y. Haneda, T. Sato, H. Adachi and I. Kanno, Integrated Ferroelectrics, 21,451-460 (1998).
3. [3] T. Morita and Y. Cho, Appl. Phys. Left., 85, 2331-2333 (2004).
4. [4] W. J. Takei, N. P. Formigoni, and M. H. Francombe, Appl. Phys. Lett., 15, 256-258 (1969).
5. [5] Y. Sakashita, H. Segawa, K. Tominaga and M. Okada, J. Appl. Phys., 73, 7857-7863 (1993).