Isotope-modified silicon layers obtained by plasma enhanced chemical vapor deposition from gaseous silicon tetrafluoride

Author:

Sennikov P. G.,Golubev S. V.,Shashkin V. I.,Pryakhin D. A.,Drozdov M. N.,Andreev B. A.,Pohl H. -J.,Godisov O. N.

Publisher

Pleiades Publishing Ltd

Subject

Physics and Astronomy (miscellaneous)

Reference21 articles.

1. N. N. Gerasimenko and Yu. N. Parkhomenko, Silicon: Material for Nanotechnologies (Tekhnosfera, Moscow, 2007) [in Russian].

2. Nanosilicon, Ed. by V. Kumar (Elsevier, 2008).

3. Y. Djeridane, A. Abramov, and P. Roca i Cabarrocas, Thin Solid Films 515, 7451 (2007).

4. E. E. Haller, Solid State Comm. 133, 693 (2005).

5. E. E. Haller and J. W. Ager, Encyclopedia of Condensed Matter Physics: Semiconductors (Elsevier, 2005), p. 43.

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