Diffusion of Arsenic in GaAs Oxide Irradiated with Ar+ Ions
Author:
Publisher
Pleiades Publishing Ltd
Subject
Surfaces, Coatings and Films
Link
https://link.springer.com/content/pdf/10.1134/S1027451022050196.pdf
Reference22 articles.
1. S. J. Pearton, J. Yang, P. H. Cary, F. Ren, J. Kim, M. J. Tadjer, M. A. Mastro, Appl. Phys. Rev. 5, 011301 (2018). https://doi.org/10.1063/1.5006941
2. A. G. Baca and C. I. H. Ashby, Fabrication of GaAs Devices (IET, London, 2005). https://doi.org/1049/PBEP006E
3. G. P. Schwartz, G. J. Gualtieri, G. W. Kammlott, and B. Schwartz, J. Electrochem. Soc. 126, 1737 (1979). https://doi.org/10.1149/1.2128789
4. J. P. Contour, J. Massies, and A. Saletes, Jpn. J. Appl. Phys. 24, L563 (1985). https://doi.org/10.1143/JJAP.27.L167
5. T. Ishikawa and H. Ikoma, Jpn. J. Appl. Phys. 31, 3981 (1992).
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