Enhancing light trapping of macroporous silicon by alkaline etching: application for the fabrication of black Si nanospike arrays

Author:

Loget G.12345ORCID,Vacher A.12345,Fabre B.12345ORCID,Gouttefangeas F.67458,Joanny L.67458,Dorcet V.12945

Affiliation:

1. Institut des Sciences Chimiques de Rennes

2. UMR 6226 CNRS

3. Matière Condensée et Systèmes Electroactifs (MaCSE)

4. Université de Rennes 1

5. Campus de Beaulieu

6. ScanMAT-Cmeba

7. UMS 2001 CNRS

8. 35042 Rennes Cedex

9. Pôle Ressources Administratives Techniques et Scientifiques (PRATS)

Abstract

Extended alkaline etching of macroporous Si, produced by photoelectrochemical etching, influences the surface structures and their optical properties. We use this treatment for fabricating highly-absorbing arrays of sharp and crystalline nanospikes.

Funder

Agence Nationale de la Recherche

Publisher

Royal Society of Chemistry (RSC)

Subject

Materials Chemistry,General Materials Science

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