Controlled Anisotropic Wetting by Plasma Treatment for Directed Self-Assembly of High-χ Block Copolymers

Author:

Putranto Achmad Fajar1ORCID,Petit-Etienne Camille1,Cavalaglio Sébastien1,Cabannes-Boué Benjamin2,Panabiere Marie1,Forcina Gianluca1,Fleury Guillaume2,Kogelschatz Martin1,Zelsmann Marc1ORCID

Affiliation:

1. CNRS, CEA/LETI Minatec, Laboratoire des Technologies de la Microélectronique (LTM), Université Grenoble Alpes, 38000 Grenoble, France

2. CNRS, Bordeaux INP, LCPO, UMR 5629, Univ. Bordeaux, F-33600 Pessac, France

Funder

Agence Nationale de la Recherche

R?gion Auvergne-Rh?ne-Alpes

French RENATECH network

BPI France

Publisher

American Chemical Society (ACS)

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