Formation and Characterization of Three-Dimensional Tetrahedral MoS2 Thin Films by Chemical Vapor Deposition

Author:

Mathew Sobin1ORCID,Narasimha Shilpashree1,Reiprich Johannes1,Scheler Theresa2,Hähnlein Bernd3,Thiele Sebastian1,Stauffenberg Jaqueline4,Kurtash Vladislav1,Abedin Saadman1,Manske Eberhard4,Jacobs Heiko O.1ORCID,Pezoldt Jörg1ORCID

Affiliation:

1. FG Nanotechnologie, Institut für Mikro- und Nanoelektronik and Institut für Mikro- und Nanotechnologien MacroNano, Technische Universität Ilmenau, Postfach 100565, 98684 Ilmenau, Germany

2. FG Werkstoffe der Elektrotechnik, Institut für Werkstofftechnik, Technische Universität Ilmenau, Postfach 100565, 98684 Ilmenau, Germany

3. FG Technische Physik I, Institut für Physik, Technische Universität Ilmenau, Postfach 100565, 98684 Ilmenau, Germany

4. FG Fertigungs- und Präzisionsmesstechnik, Institut für Prozessmess- und Sensortechnik, Technische Universität, PF 100565, 98684 Ilmenau, Germany

Funder

Th?ringer Aufbaubank

Carl-Zeiss-Stiftung

Freistaat Th?ringen

European Commission

Publisher

American Chemical Society (ACS)

Subject

Condensed Matter Physics,General Materials Science,General Chemistry

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