Tunable Surface Structuration of Silicon by Metal Assisted Chemical Etching with Pt Nanoparticles under Electrochemical Bias

Author:

Torralba Encarnación1,Le Gall Sylvain2,Lachaume Raphaël2,Magnin Vincent3,Harari Joseph3,Halbwax Mathieu3,Vilcot Jean-Pierre3,Cachet-Vivier Christine1,Bastide Stéphane1

Affiliation:

1. Institut de Chimie et des Matériaux Paris-Est, CNRS, Université Paris-Est, 2-8 rue Henri Dunant, 94320 Thiais, France

2. Group of electrical engineering − Paris, UMR CNRS 8507, Centrale Supélec, Univ. Paris-Sud, Université Paris-Saclay, Sorbonne Universités, UPMC Université Paris 06, 3 & 11 rue Joliot-Curie, Plateau de Moulon, 91192 Gif-sur-Yvette CEDEX, France

3. Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie, UMR CNRS 8520, Université de Lille 1 - Sciences et Technologies, Avenue Henri Poincaré, CS 60069, 59652 Villeneuve d’Ascq cedex, France

Funder

Agence Nationale de la Recherche

Publisher

American Chemical Society (ACS)

Subject

General Materials Science

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