DNQ-novolac photoresists revisited:1H and13C NMR evidence for a novel photoreaction mechanism

Author:

Roy Debmalya,Basu P. K.,Raghunathan P.,Eswaran S. V.

Publisher

Wiley

Subject

General Materials Science,General Chemistry

Reference10 articles.

1. In Encyclopedia of Polymer Science and Engineering, vol. 11, (ed.). Wiley: New York, 1988; 45-95.

2. Lithographic Imaging Techniques for the Formation of Nanoscopic Features

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