Atomic Hydrogen Induced Chemical Vapor Deposition of Silicon Oxycarbide Thin Films Derived from Diethoxymethylsilane Precursor

Author:

Uznanski Pawel1ORCID,Walkiewicz‐Pietrzykowska Agnieszka1,Jankowski Krzysztof12,Zakrzewska Joanna1,Wrobel Aleksander M.1,Balcerzak Jacek3,Tyczkowski Jacek3

Affiliation:

1. Polish Academy of Sciences Centre of Molecular and Macromolecular Studies Sienkiewicza 112 Lodz 90‐363 Poland

2. Technical Department Jacob of Paradies University Chopina 52 Gorzow Wielkopolski 66‐400 Poland

3. Faculty of Process and Environmental Engineering, Department of Molecular Engineering Lodz University of Technology Wolczanska 213 Lodz 90‐924 Poland

Publisher

Wiley

Subject

Inorganic Chemistry,General Chemistry

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