1. Ferroelectricity in hafnium oxide thin films
2. J.Müller T. S.Böscke S.Müller E.Yurchuk P.Polakowski J.Paul D.Martin T.Schenk K.Khullar A.Kersch W.Weinreich S.Riedel K.Seidel A.Kumar T. M.Arruda S. V.Kalinin T.Schlosser R.Boschke R.van Bentum U.Schröder T.Mikolajick inIEEE International Electron Devices Meeting IEDM IEEE Piscataway NJ2013 pp.10.8.1–10.8.4.
3. A.Toriumi L.Xu Y.Mori X.Tian P. D.Lomenzo H.Mulaosmanovic M.Materano T.Mikolajick U.Schroeder inIEEE International Electron Devices Meeting IEEE Piscataway NJ2019 15.1.1–15.1.4.
4. T.Mikolajick S.Slesazeck U.Schroeder P. D.Lomenzo E. T.Breyer H.Mulaosmanovic M.Hoffmann T.Mittmann F.Mehmood B.Max inIEEE Int. Electron Devices Meeting IEEE Piscataway NJ2019 pp.15.5.1–15.1.4.