Laser-based plasma sources at 6.6 and 60 nm
Author:
Publisher
OSA
Reference6 articles.
1. Laser plasma EUV sources based on droplet target technology;RichardsonBakshi,2006
2. The effects of vacuum ultraviolet radiation on low-kdielectric films
3. Mass spectrometric study of photo dissociation of organic molecules by vacuum-ultraviolet irradiation for development of analysis technique
4. Estimation of the Lyman-α line intensity in a lithium-based discharge-produced plasma source
5. Tri-material multilayer coatings with high reflectivity and wide bandwidth for 25 to 50 nm extreme ultraviolet light
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