Wafer Cooling, Faraday Design and Wafer Charging-Reference-Cited by-同舟云学术

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Wafer Cooling, Faraday Design and Wafer Charging

Published:1988 Issue: Volume: Page:313-344
ISSN:
Container-title:Ion Implantation Science and Technology
language:
Short-container-title:

Author:

Mack M.E.

Publisher

Elsevier

Reference61 articles.

1. Ion Implantation Technology;James Gibbons,1987

2. Ion Implantation Equipment and Techniques;Rose,1985

3. Ion Implantation Equipment and Techniques;Current,1985

4. Ion Implantation Equipment and Techniques;Smith,1983

5. Sheet resistance variations of phosphorus implanted silicon at elevated temperatures

Cited by 1 articles. 订阅此论文施引文献订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

1. In-Situ Control of Wafer Charge Neutralization During High Current Ion Implants;MRS Proceedings;1993

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