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Analysis of trace metals in thin silicon nitride films by total-reflection X-ray fluorescence

  • Published:2001-11 Issue:11 Volume:56 Page:2321-2330
  • ISSN:0584-8547
  • Container-title:Spectrochimica Acta Part B: Atomic Spectroscopy
  • language:en
  • Short-container-title:Spectrochimica Acta Part B: Atomic Spectroscopy

Author:

Vereecke G.,Arnauts S.,Van Doorne P.,Kenis K.,Onsia B.,Verstraeten K.,Schaekers M.,Van Hoeymissen J.A.B.,Heyns M.M.

Publisher

Elsevier BV

Subject

Spectroscopy,Instrumentation,Atomic and Molecular Physics, and Optics,Analytical Chemistry

Reference28 articles.

1. The International Technology Roadmap for Semiconductors, Semiconductor Industry Association, San Jose, CA, 1999.

2. Trends in DRAM dielectrics

3. Effect of x-ray irradiation on the electrical characteristics of ultra-thin gate oxides

4. Novel Back Side Processes for Copper and Pre-Lithography Cleans

Cited by 4 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

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