Photoresists comparative analysis using soft X-ray synchrotron radiation and time-of-flight mass spectrometry

Author:

Mendes L.A.V.,Avila L.F.,Menezes J.W.,Pinho R.R.,Lima C.R.A.,Cescato L.,Rocco M.L.M.

Publisher

Elsevier BV

Subject

Organic Chemistry,Polymers and Plastics,General Physics and Astronomy,Materials Chemistry

Reference18 articles.

1. Reflecting polarizing beam splitter;Lima;Opt Lett,1997

2. The science and engineering of microelectronic fabrication;Campbell,1996

3. AZ-1518 photoresist analysis with synchrotron radiation using high resolution time of flight mass spectrometry;Mendes;Polym Degrad Stab,2007

4. A two-crystal monochromator for the UVX ring of LNLS;Corrêa;Rev Sci Instrum,1992

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