RBS-channeling measurements of sapphire (001) substrate implanted with high-energy O and Cu ions

Author:

Nakao S.,Miyagawa Y.,Miyagawa S.,Tazawa M.,Ikeyama M.

Publisher

Elsevier BV

Subject

Instrumentation,Nuclear and High Energy Physics

Reference12 articles.

1. Visible photoluminescence in Si+‐implanted thermal oxide films on crystalline Si

2. Nanocomposites formed by ion implantation: Recent developments and future opportunities

3. Annealing of Silica Glasses Implanted with High-Energy Copper Ions

4. High-energy Cu and O ion co-implantation into silica glasses

5. S. Nakao, M. Ikeyama, M. Tazawa, P. Jin, H. Niwa, S. Tanemura, Y. Miyagawa, S. Miyagawa, K. Saitoh, in: 1998 International Conference on Ion-Implantation Technology Proceedings, 1999, p. 771

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