Novel method of low-vacuum plasma triode sputtering

Author:

Golan G,Axelevitch A

Publisher

Elsevier BV

Subject

General Engineering

Reference13 articles.

1. Handbook of Thin Film Technology;Maissel,1970

2. B. Wynveen, J. Fan, J. Kakalios, J. Shinar, Studies of light soaking stability in RF sputter-deposited a-Si:H, http://cmp.ameslab.gov/cmp/Abstracts/shinar_21.html

3. Principles of Plasma Discharges and Materials Processing;Lieberman,1994

4. Surface Modification Engineering;Kossowsky,1989

5. Energy spectra of sputtered species under sub-keV ion bombardment: experiments and computer simulations;Mousel;Nucl. Instrum. Meth. B,1999

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