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Ion beam figuring for lithography optics

  • Published:2009-05 Issue:8-9 Volume:267 Page:1390-1393
  • ISSN:0168-583X
  • Container-title:Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms
  • language:en
  • Short-container-title:Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms

Author:

Weiser Martin

Publisher

Elsevier BV

Subject

Instrumentation,Nuclear and High Energy Physics

Reference17 articles.

1. Cramming more components on electronic circuits;Moore;Electronics,1965

2. Sematech, The International Roadmap for Semiconductors, Edition, 2007, .

3. Optical lithography…40 years and holding;Bruning;SPIE,2007

4. International Technology Roadmap for Semiconductors, Executive Summary, 2005 .

5. Extreme ultraviolet lithography: a review;Wu;J. Vac. Sci. Technol. B25: Microelectron. Nanometer Struct.,2007

Cited by 115 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

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