Positron annihilation studies on N+ implantation induced vacancy type defects and its recovery in SI: 6H- SiC

Author:

Kamalakkannan K.,Lakshmanan C.,Rajaraman R.,Sundaravel B.,Amarendra G.,Sivaji K.

Publisher

Elsevier BV

Subject

Instrumentation,Nuclear and High Energy Physics

Reference61 articles.

1. Advances in Silicon Carbide Processing and Applications;Saddow,2004

2. comparison of 6H-SiC, 3C-SiC, and Si for power devices;Bhatnagar;IEEE Trans. Electron Devices,1993

3. 6H-Silicon Carbide devices and applications;Palmour;Phys. B,1993

4. Thermal conductivity of pure and impure silicon, silicon carbide, and diamond;Slack;J. Appl. Phys.,1964

5. Breakdown field in vapor-grown silicon carbide p-n junctions;W. v. Muench, I. Pfaffeneder;J. Appl. Phys.,1977

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