Low-dose n-type ion implantation into Cr-doped GaAs substrates

Author:

Donnelly J.P.,Bozler C.O.,Lindley W.T.

Publisher

Elsevier BV

Subject

Materials Chemistry,Electrical and Electronic Engineering,Condensed Matter Physics,Electronic, Optical and Magnetic Materials

Reference12 articles.

1. Ion-implanted microwave field-effect transistors in GaAs

2. Exact circuit design using inefficient c.t.d.s

3. 1975 Technical Digest of the International Electron Devices Meeting;Keller,1975

4. 1976 Proc. Int. Solid State Circuits Conference;Ladd,1976

5. J.A. Higgins, B.M. Welch, F.H. Eisen and G.D. Robinson, Electron. Lett., to be published.

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