Chemical etching of glasses in hydrofluoric Acid: A brief review

Author:

Shubhava ,Jayarama A.,Kannarpady Ganesh K.,Kale Sangeeta,Prabhu Shriganesh,Pinto Richard

Publisher

Elsevier BV

Subject

General Medicine

Reference59 articles.

1. Gmelins Handbuch der anorganischen, Chemie;Schwab;Zeitschrift Fur Phys. Chemie.,1957

2. C. Iliescu, K.L. Tan, F.E.H. Tay, J. Miao, Deep wet and dry etching of Pyrex glass: a review, in: ICMAT 2005 Symp., 2005.

3. Deep reactive ion etching of borosilicate glass using an anodically bonded silicon wafer as an etching mask;Akashi;J. Micromech. Microeng.,2006

4. Fabrication of high-density electrical feed-throughs by deep-reactive-ion etching of Pyrex glass;Li;J. Microelectromech. Syst.,2002

5. Characterization of masking materials for deep glass micromachining;Bien;J. Micromech. Microeng.,2003

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