Amorphous hydrogenated silicon films produced by an expanding argon-silane plasma investigated with spectroscopic IR ellipsometry

Author:

Wilbers A.T.M.,Meeusen G.J.,Haverlag M.,Kroesen G.M.W.,Schram D.C.,Kersten H.

Publisher

Elsevier BV

Subject

Materials Chemistry,Metals and Alloys,Surfaces, Coatings and Films,Surfaces and Interfaces,Electronic, Optical and Magnetic Materials

Reference30 articles.

1. Plasma-deposited Thin Films;Mort,1986

2. Fast deposition of amorphous hydrogenated carbon films using a supersonically expanding arc plasma

3. Fast deposition of plasma polymer layers

4. Proc. 3rd Int. Conf. on Surface Modification Technologies;Bachmann,1990

5. Proc. 5th Workshop on Carbon Materials;Buuron,1990

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