Ultralow dielectric constant SiCOH films by plasma enhanced chemical vapor deposition of decamethylcyclopentasiloxane and tetrakis(trimethylsilyloxy)silane precursors

Author:

Park Yoonsoo,Lim Hyuna,Kwon Sungyool,Ban Wonjin,Jang Seonhee,Jung Donggeun

Publisher

Elsevier BV

Subject

Materials Chemistry,Metals and Alloys,Surfaces, Coatings and Films,Surfaces and Interfaces,Electronic, Optical and Magnetic Materials

Reference45 articles.

1. High-performance interconnects: an integration overview;Havemann;Proc. IEEE,2001

2. A global view of interconnects;List;Microelectron. Eng.,2006

3. Dielectric Films for Advanced Microelectronic;Baklanov,2007

4. Low dielectric constant materials for microelectronics;Maex;J. Appl. Phys.,2003

5. Low dielectric constant materials;Volksen;Chem. Rev.,2009

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