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Susceptor-assisted microwave annealing for activation of arsenic dopants in silicon

  • Published:2012-04 Issue:13 Volume:520 Page:4314-4320
  • ISSN:0040-6090
  • Container-title:Thin Solid Films
  • language:en
  • Short-container-title:Thin Solid Films

Author:

Alford T.L.,Gadre Mandar J.,Vemuri Rajitha N.P.,Theodore N. David

Funder

National Science Foundation

Publisher

Elsevier BV

Subject

Materials Chemistry,Metals and Alloys,Surfaces, Coatings and Films,Surfaces and Interfaces,Electronic, Optical and Magnetic Materials

Reference29 articles.

1. International Technology Roadmap for Semiconductors (Semiconductor Industry Association) (http://www.itrs.net), 2007.

2. Semiconductor Material and Device Characterization;Schroder,2006

3. Semiconductor Device Fundamentals;Pierret,1996

4. Electronic Materials Science: For Integrated Circuits in Si and GaAs;Mayer,1990

5. Electronic Thin Film Science;Tu,1992

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