Progress of Extreme Ultraviolet (EUV) Source Development for Micro-Lithography
Author:
Affiliation:
1. Graduate School of Engineering, Utsunomiya University
2. Institute of Laser Engineering, Osaka University
3. Institute for Laser Technology
4. Gigaphoton Inc.
Publisher
Laser Society of Japan
Link
https://www.jstage.jst.go.jp/article/lsj/42/1/42_14/_pdf
Reference42 articles.
1. 1） 岡崎 信次：光学 41（ 2012） 116; and references therein.
2. 2） H. Mizoguchi, H. Nakarai, T. Abe, T. Ohta, K. M. Nowak, Y. Kawasuji, H. Tanaka, Y. Watanabe, T. Hori, T. Kodama, et al.: Proc. SPIE 8679 (2013) 86790A.
3. 3） 大下 淳一，木村 雅秀：日経エレクトロニクス 2012年11 月26日号59頁：解説2「半導体のコストダウンは止まるの か？－動き出す450 mmウエハーと瀬戸際のEUV露光－」
4. 4） 東口 武史，遠藤 彰，溝口 計：プラズマ・核融合学会誌 89 （2013） 341.
5. 5） 東口 武史，大塚 崇光，鵜篭 照之，藤岡 慎介，西村 博明， 鈴木 千尋，坂上 和之，鷲尾 方一，遠藤 彰：プラズマ・核 融合学会誌 89（ 2013） 669.
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