Characteristics of Debris from a CO2 Laser-Produced Plasma Using a Solid Tin Target for Development of Extreme Ultraviolet Source
Author:
Affiliation:
1. EUVA (Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association) Hiratsuka R & D Center
Publisher
Laser Society of Japan
Link
https://www.jstage.jst.go.jp/article/lsj/35/7/35_457/_pdf
Reference15 articles.
1. 1) 2005 ITRS Lithography, Fig. 67 (2005) pp.24.
2. 2) V. Bakshi: EUV Sources for Lithography (SPIE PRESS, Bellingham, 2006) Chap. 2.
3. 3) H. Tanaka, A. Matsumoto, K. Akinaga, A. Takahashi, and T. Okada: Appl. Phys. Lett. 87 (2005) 041503.
4. 4) G. O'Sullivan and P. K. Carroll: J. Opt. Soc. Am. 71 (1981) 227.
5. 5) T. Tomie, T. Aota, Y. Ueno, G. Niimi, H. Yashiro, J. Q. Lin, I. Matsushima, K. Komiyama, D. H. Lee, K. Nishigori, and H. Yokota: Proc. SPIE 5037 (2003) 147.
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