Abstract
Для уменьшения размера пикселя и создания мультиспектрального матричного приёмника
инфракрасного излучения на основе HgCdTe необходимо анизотропное травление с высоким
соотношением глубины к ширине канавки травления. Для этих целей подходит плазмохимическое
травление, но в случае HgCdTe имеется недостаток в виде конверсии материала р-типа на некоторую
глубину в n-тип, и образование приповерхностного тонкого слоя n+-типа. В данной работе
исследуется влияние температуры образца при плазмохимическом травлении на процесс обратной
конверсии к исходному p-типу HgCdTe и релаксация параметров образовавшегося n-слоя.
Эксперименты проводились на образцах ГЭС КРТ МЛЭ с составом x=0.22, вакансионного pтипа проводимости с концентрацией дырок ≈1016см-3. Плазмохимическое травление проводилось на
установке с генератором индуктивно-связанной плазмы в газовой смеси CH4 и Ar и при отсутствии
разности потенциалов между плазменным облаком и образцом (таким образом, отсутствовала ионная
составляющая травления). Температура образца изменялась от -150°С до +30°С, при этом скорость
травления изменялась от 40 до 65 нм/мин, соответственно. Сразу после травления на всех образцах
наблюдается конверсия типа проводимости из p в n. При последующей выдержке образцов при
комнатной температуре происходит релаксация концентрации электронов. В диапазоне температур
образца от -150°С до -65°С происходит обратная конверсия в р-тип проводимости с параметрами,
близкими к исходным. При этом время, необходимое для конверсии к исходному p-типу,
увеличивается с ростом температуры травления. В диапазоне от -20°С до +30°С обратной конверсии
в p-тип не наблюдается.
Измеренные магнетополевые зависимости проводимости и коэффициента Холла RH и их
релаксация от времени выдержки при комнатной температуре хорошо описываются с
использованием двухслойной модели, содержащей тонкий n-слой на поверхности р-слоя. С помощью
подгонки получены параметры n-слоя в зависимости от времени выдержки при комнатной
температуре.
Наблюдаемый после травления n-слой вблизи поверхности, наиболее вероятно, обусловлен
образованием донорных комплексов и наличием междоузельной ртути (HgI). Донорные комплексы
образуются при захвате HgI некими ловушками. Процесс релаксации концентрации электронов
связан с распадом комплексов, высвобождением HgI с последующей диффузией к поверхности и
выходом из полупроводника или рекомбинацией с вакансиями ртути. Величина концентрации HgI в
образце, сразу после травления, зависит от соотношения скорости травления и скорости диффузии
HgI в объем полупроводника. Предположительно, при низких температурах скорость травления
больше скорости диффузии и концентрации HgI, образовавшейся в процессе травления,
недостаточно, чтобы заметно изменить концентрацию вакансий. С повышением температуры
увеличивается коэффициент диффузии HgI [1]. При этом скорость травления растёт медленнее, чем
скорость диффузии HgI. И выше температуры -20°С скорость диффузии существенно превосходит
скорость травления. Концентрация HgI в образце начинает превосходить концентрацию вакансий, и
из-за рекомбинации HgI с вакансиями, тип проводимости плёнки КРТ становиться электронным за
счет фоновых доноров.
Впервые показано, что, при указанном в работе режиме плазмохимического травления и
температурах образца ниже -650
С, параметры материала КРТ вакансионного р-типа после травления
и выдержки при комнатной температуре в течение нескольких часов возвращаются к исходным.
Publisher
Rzhanov Institute Semiconductor Physics SB RAS