Optimized Growth of Strained Sige Films on Annealed Compliant Double Porous Silicon Substrates

Author:

Gouder Soraya,Gouder Soraya,Mahamdi Ramdane,Escoubas Stephanie,favre luc,Berbezier Isabelle

Publisher

Elsevier BV

Reference27 articles.

1. Silicon-Germanium Strained Layer Materials in Microelectronics;D J Paul;Adv. Mater,1999

2. Structural and optical properties of three-dimensional Si 1-x Ge x /Si nanostructures;D J Lockwood;Semicond. Sci. Technol,2008

3. Ultra-thin strain relaxed SiGe buffer layers with 40% Ge;K Lyutovich;Mat. Res. Soc. Symp,2003

4. Strain adjustment with thin virtual substrates;E Kasper;Solid-State Electron,2004

5. Thin SiGe virtual substrates for Ge heterostructures integration on silicon;S Cecchi;J. Appl. Phys,2014

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