ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ ПРИМЕСИ РЕНИЯ НА МЕХАНИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ТОНКИХ ПЛЕНОК ВОЛЬФРАМА МЕТАЛЛИЗАЦИИ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНЫХ КРЕМНЕВЫХ ИС

Author:

Шевяков В.И.1,Тимаков А.В.1

Affiliation:

1. Научный исследовательский институт Московский институт электронной техники

Abstract

Данная работа посвящена исследованию влияния примеси рения на механические и проводящие свойства тонких пленок вольфрама. Получены результаты исследования адгезивных свойств пленок. Проведено исследование уровня механических напряжений, которое соответствует полученным теоретически данным. Измерено удельное сопротивление для пленок чистого вольфрама и пленок с легирующим рением 5, 10, 15 и 20%. Получены пленки, соответствующие требованиям отраслевых стандартов.

Publisher

Akademizdatcenter Nauka

Reference7 articles.

1. Тимаков А.В., Горностай-Польский В.С., Шевяков В.И. Многоуровневая металлизация высокотемпературных кремниевых ИС на основе вольфрама. Физика и технология. Обзор // Изв. вузов. Электроника. 2023. Т. 28. № 2. С. 164-179. EDN: SIMAWM

2. High-Temperature IC‘s. - Fraunhofer-Institut fU+0026#252;r Mikroelektronische Schaltungen und Systeme IMS. URL: www.ims.fraunhofer.de (accessed 20 аugust 2022).

3. High-Temperature-Electronics/Technologies/HT-SOI-CMOS. - Вusiness_Units_and_Core_Competencies. URL www.ims.fraunhofer.de (accessed: 10 аugust 2022).

4. Timakov A.V., Shevyakov V.I. Investigation of the electrophysical and mechanical properties of metallization based on alloys W with Re, Ti, N for high-temperature silicon VLSI // Proc. of SPIE - 2022. Vol. 121571215719-6. (WoS, Scopus.). EDN: VJZNRX

5. Патент РФ RU2775446 C1 // Способ получения тонких металлических пленок на основе вольфрама.

同舟云学术

1.学者识别学者识别

2.学术分析学术分析

3.人才评估人才评估

"同舟云学术"是以全球学者为主线,采集、加工和组织学术论文而形成的新型学术文献查询和分析系统,可以对全球学者进行文献检索和人才价值评估。用户可以通过关注某些学科领域的顶尖人物而持续追踪该领域的学科进展和研究前沿。经过近期的数据扩容,当前同舟云学术共收录了国内外主流学术期刊6万余种,收集的期刊论文及会议论文总量共计约1.5亿篇,并以每天添加12000余篇中外论文的速度递增。我们也可以为用户提供个性化、定制化的学者数据。欢迎来电咨询!咨询电话:010-8811{复制后删除}0370

www.globalauthorid.com

TOP

Copyright © 2019-2024 北京同舟云网络信息技术有限公司
京公网安备11010802033243号  京ICP备18003416号-3