SWELLING OF NEGATIVE RESIST SYSTEMS USED IN E-BEAM LITHOGRAPHY†
Author:
Affiliation:
1. a School of Chem. Engineering, Olin Hall and Fiber Science Prog., MVR Hall , Cornell University , Ithaca , NY , 14853
Publisher
Informa UK Limited
Subject
General Chemical Engineering,General Chemistry
Link
https://www.tandfonline.com/doi/pdf/10.1080/00986449008911560
Reference17 articles.
1. Polymers in Microlithography
2. Semiconductor Lithography
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1. The link between nanoscale feature development in a negative resist and the Hansen solubility sphere;Journal of Polymer Science Part B: Polymer Physics;2009-09-23
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