Effect of Substrate Bipolar Pulse Voltage on the Properties of Cu Films on the Paper Substrate Using Magnetron Sputtering with Multipolar Magnetic Plasma Confinement Assisted by Inductively Coupled Plasma
Author:
Publisher
The Vacuum Society of Japan
Subject
Spectroscopy,Surfaces and Interfaces,Instrumentation,General Materials Science
Reference4 articles.
1. 1) H. Kobayashi: Sputter Hakumaku —kiso to ouyou— (The Nikkan Kogyo Shimbun, LTD., Tokyo, 2001) p. 77 [in Japanese].
2. 3) T. Ikehata: J. Vac. Soc. Jpn., 51 (2008) 69.
3. 4) F. Morishige, K. Otani, S. Kasai, K. Kawabata and K. Okamoto: J. Vac. Soc. Jpn., 53 (2010) 184.
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