Electron-Beam Machining
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Springer Singapore
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http://link.springer.com/content/pdf/10.1007/978-981-13-0098-1_17
Reference18 articles.
1. ALLRESIST (2017) allresist_produktinfos_ar-p6200. http://www.allresist.com/wp-content/uploads/sites/2/2016/12/allresist_produktinfos_ar-p6200_englisch.pdf . Accessed 15 Feb 2018
2. Andok R, Bencurova A, Vutova K et al (2016) Study of the new CSAR62 positive tone electron-beam resist at 40 keV electron energy. J Phys Conf Ser IOP Pub 700:012030. https://doi.org/10.1088/1742-6596/700/1/012030
3. Chou SY, Krauss PR, Renstrom PJ (1995) Imprint of sub-25 nm vias and trenches in polymers. Appl Phys Lett 67:3114–3116. https://doi.org/10.1063/1.114851
4. Chou SY, Krauss PR, Zhang W et al (1997) Sub-10 nm imprint lithography and applications. J Vac Sci Technol B 15:2897–2904. https://doi.org/10.1116/1.589752
5. Claβen A, Kuhn S, Straka J et al (1994) High voltage electron beam lithography of the resolution limits of SAL 601 negative resist. Microelectron Eng 17:21–24. https://doi.org/10.1016/0167-9317(92)90007-E
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