Modeling and Simulation of Silicon Anisotropic Etching
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Springer Netherlands
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http://link.springer.com/content/pdf/10.1007/978-981-10-2798-7_1-1
Reference40 articles.
1. Allongue P, Costa-Kieling V, Gerischer H (1993) Etching of silicon in NaOH solutions. J Electrochem Soc 140:1009–1026
2. Bean KE (1978) Anisotropic etching of silicon. IEEE Trans Electron Devices ED-25:1178–1185
3. Buser RA, Rooij NF (1991) ASEP: a CAD program for silicon anisotropic etching. Sens Actuators 28:71–78
4. Camon H, Moktadir Z (1995) Atomic scale simulation of silicon etched in aqueous KOH solution. Sens Actuators A46:27–29
5. Danel JS, Delapierre G (1992) Sens Actuators 31:267
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