Numerical Study of HBr/He Discharges in Capacitive Coupled Plasma Reactor
Author:
Publisher
Springer Science and Business Media LLC
Subject
Surfaces, Coatings and Films,Condensed Matter Physics,General Chemical Engineering,General Chemistry
Link
http://link.springer.com/content/pdf/10.1007/s11090-015-9689-7.pdf
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1. Numerical Study of SF6/O2 Plasma Discharge for Etching Applications;Plasma Chemistry and Plasma Processing;2021-03-27
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