CVD (Part 1): Atmospheric Pressure/Low-Pressure CVD-Reference-Cited by-同舟云学术

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CVD (Part 1): Atmospheric Pressure/Low-Pressure CVD

Published:1998 Issue: Volume: Page:317-330
ISSN:
Container-title:Ultraclean Surface Processing of Silicon Wafers
language:
Short-container-title:

Author:

Maeda Kazuo

Publisher

Springer Berlin Heidelberg

Link

http://link.springer.com/content/pdf/10.1007/978-3-662-03535-1_22

Reference6 articles.

1. K. Maeda: Semiconductor World, 90 (4/1993) [in Japanese].

2. K. Maeda: Semiconductor World, 64 (1/1993) [in Japanese].

3. C. Dornfest: Extended Abstracts of ECS Meeting 85–1 347 (5/1985).

4. S. Iwamatsu: Semicond. Superclean Tech., Kogyo-Chosa Kai, Tokyo (1993) [in Japanese].

5. P. Burggraaf: Semiconductor International, 46 (9/1993).

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1. ДИНАМИКА МИКРОЧАСТИЦ В ПОГРАНИЧНЫХ ГАЗОВОМ И ПЛАЗМЕННОМ СЛОЯХ КАК ФАКТОР ДЕФЕКТООБРАЗОВАНИЯ НА ПОДЛОЖКЕ, "Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника";Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника;2022

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