Polymer photoablation under windowless VUV hydrogen or helium discharge lamp

Author:

Fuchs C.,Goetzberger O.,Henck R.,Fogarassy E.

Publisher

Springer Science and Business Media LLC

Subject

General Materials Science,General Chemistry

Reference10 articles.

1. R. Srinivasan, W. J. Leigh: J Am. Chem. Soc.104, 6784 (1982)

2. R. Srinivasan, V. Mayne-Banton: Appl. Phys. Lett.41, 576, (1982)

3. Springer Ser. Chem. Phys.;R. Srinivasan,1984

4. R. Srinivasan: InLaser Ablation of Electronic Materials: Basic Mechanisms and Applications, ed. by E. Fogarassy, S. Lazare, EMRS Monogr., Vol. 4 (North-Holland, Amsterdam 1992) p. 191

5. M. Bolle, S. Lazare: Appl. Surf. Sci.54, 471 (1992)

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