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Co-sputtered Si-Cr resistive films

  • Published:1987-10 Issue:10 Volume:22 Page:3703-3706
  • ISSN:0022-2461
  • Container-title:Journal of Materials Science
  • language:en
  • Short-container-title:J Mater Sci

Author:

Fern�ndez M.,Gonz�lez J. P.,Albella J. M.,Mart�nez-Duart J. M.

Publisher

Springer Science and Business Media LLC

Subject

Mechanical Engineering,Mechanics of Materials,General Materials Science

Cited by 5 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

1. BCD Process Technologies;Springer Handbook of Semiconductor Devices;2022-11-11

2. Morphological and electrical characterization of SixCryCzBv thin films;Microelectronic Engineering;2010-03

3. Granular Films for Use as Thin-Film Resistors;Journal of Electronic Materials;2008-05-01

4. Growth of oxide layers on CrSiO films;Thin Solid Films;1993-04

5. High temperature stability of CrSi(W)N films;Thin Solid Films;1992-12
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