Investigation of interface traps at Si/SiO2 interface of SOI pMOSFETs induced by Fowler–Nordheim tunneling stress using the DCIV method

Author:

Li Xiaojing,Zeng Chuanbin,Wang Ruiheng,Gao Linchun,Yan Weiwei,Luo Jiajun,Han Zhengsheng

Publisher

Springer Science and Business Media LLC

Subject

General Materials Science,General Chemistry

Reference25 articles.

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