Characterizing photolithographic linewidth sensitivity to process temperature variations for advanced resists using a thermal array

Author:

Schaper C.D.,El-Awady K.,Kailath T.,Tay A.,Lee L.L.,Ho W.K.,Fuller S.E.

Publisher

Springer Science and Business Media LLC

Subject

General Materials Science,General Chemistry

Reference10 articles.

1. B. Smith: Resist Processing. In Microlithography: Science and Technology, ed. by J. Sheets, B. Smith (Marcel-Dekker, New York 1998)

2. D. Seeger: Solid State Technol. 40, 115 (1997)

3. B. Cohen, M. Sun: Solid State Technol. 46, 51 (2003)

4. K. El-Awady: Programmable Thermal Processing Module for Semiconductor Substrates. PhD thesis, Stanford University (2000)

5. A. Hisai, K. Kaneyama, C. Pieczulewsi: Proc. SPIE 4690, 754 (2002)

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