1. A. Zukauskas, R. Vaicekauskas, F. Ivanauskas, H. Vaitkevicius, M.S. Shur, Appl. Phys. Lett. 93, 0511151–0511153 (2008)
2. S. Lee, S.Y. Seo, J. Electrochem. Soc. 149, J85–J88 (2002)
3. R. Mueller-Mach, G.O. Mueller, M.R. Krames, Proc. SPIE 5187, 115–122 (2004)
4. R.J. Xie, N. Hirosaki, K. Sakuma, N. Kimura, J. Phys. D Appl. Phys. 41, 1440131–1440135 (2008)
5. Y. Xu, L. Chen, Y. Li, G. Song, Y. Wang, W. Zhuang, Z. Long, Appl. Phys. Lett. 92, 0211291–0211293 (2008)